真空镀膜设备厂-拉奇纳米(在线咨询)-镀膜设备

射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PCVD）

在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体，射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构，优点是可容纳较多工件，但这种装置中的分解率远低于1%，即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时，镀膜设备，主要为感应线圈，如图5，也叫无极环形放电，真空镀膜设备，射频频率为13.56MHz。

借助一种惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料（如TiN，TiC）的受热、蒸发、沉积过程。

蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时，真空镀膜设备厂，一小部分发生电离，并在电场的作用下飞向工件，以几千电子伏的能量射到工件表面，可以打入基体约几纳米的深度，从而大大提高了涂层的结合力，而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射，还可以清除工件表面的污染物，从而改善结合力。

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。　　

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