气相沉积设备厂家-气相沉积设备-拉奇纳米

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。　　

全SUS304优质不锈钢机身，气相沉积设备厂商，隐藏式双层冷却水套设计　　

合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性　　

采用多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。　　

装载大功率脉冲偏压电源，极大提高电粒子能量，从而获得的膜层结合力和光洁度　　

采用创新工艺制造，精益求精，通过欧盟CE和ISO质量管理体系认证；

离子镀，是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，气相沉积设备，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起，不仅明显地提高了镀层的各种性能，而且，大大扩充了镀膜技术的应用范围。

离子镀除兼有真空溅射的优点外，气相沉积设备厂家，还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。例如，利用离子镀技术可以在金属、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上，涂覆具有不同性能的单一镀层、合金镀层、化合物镀层及各种复合镀层，而且沉积速度快（可达755m/min），镀前清洗工序简单，对环境无污染，因此，近年来在国内外得到了迅速的发展。

1、真空镀膜工艺在信息存储范畴中的运用薄膜资料作为信息记载于存储介质，有其得天独厚的优势：因为薄膜很薄能够疏忽涡流损耗；磁化回转极为敏捷；与膜面平行的双稳态状况简单保持等。为了更精细地记载与存储信息，必定要选用镀膜技能。

2、真空镀膜工艺在传感器方面的运用在传感器中，多选用那些电气性质相关于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体资料。此外，其中大多数运用的是半导体的外表、界面的性质，需求尽量增大其面积，且能工业化、低报价制造、因而选用薄膜的状况许多。