台湾气相沉积设备-拉奇纳米镀膜设备-气相沉积设备公司

CVD 制备铱高温涂层人们之所以对作涂层材料感兴趣是由于这类金属优良的性能 。铱具有较强的能力和较高的熔点而受到重视， 是一种较理想的高温涂层材料 。

20 世纪 60 年代以来， 世界航空航天技术飞速发展，一些高熔点材料(如石墨碳和钨钼钽铌等难熔金属)被大量使用，但这些材料的一个共同的致命缺点是能力差。

60 年代美国材料实验室(AFML)对石墨碳的铱保护涂层进行过大量的研究， 采用了多种成型方法制备铱涂层 ，其中包括化学气相沉积法 。虽然没有制备出质量令人满意的厚铱涂层，台湾气相沉积设备， 但仍认为 CVD 是一种非常有希望且值得进一步研究的方法。

对于需要更高的表面形态质量的应用（对于粗糙度，晶粒尺寸，化学计量和其他要求比沉积速率更重要的应用），小型气相沉积设备，溅射工艺似乎是一种替代方法。由于在冷却过程中随着温度或基材（聚合物）熔化温度的降低而产生的应力，沉积过程对某些应用提出了温度限制。这导致溅射工艺在PVD沉积技术中变得更加重要，气相沉积设备厂商，同时又不会忘记基于溅射工艺的新技术的出现，以满足不断增长的市场需求。

等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。