气相沉积设备公司-新北气相沉积设备-东莞拉奇纳米

多弧离子PVD镀膜设备　　

腔体结构： 立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统　　

材质用料： 腔体采用优质SUS304不锈钢材质　　

离子弧源： 依据设备大小不同配备多套弧电源系统　　

偏压电源： 配备大功率单级脉冲偏压电源　　

多弧靶材： 标配多套钛靶或不锈钢靶材　　

转动系统： 变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式　　

真空系统（装饰镀膜设备Decorative coating）：扩散泵（可选分子泵） 罗茨泵 机械泵 维持泵 深冷系统（可选）

物***相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。

认识PVD物***相沉积技术

物***相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，气相沉积设备制造商，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

CVD法具有如下特点：可在大气或低于大气压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层，能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制，气相沉积设备厂商，也可制备具有成分梯度的涂层。

涂层与基体的结合力高，设备简单操作方便，新北气相沉积设备，但它的处理温度一般为900-1200℃，工件被加热到如此高的温度会产生以下问题：

（1）工件易变形，心部***恶化，气相沉积设备公司，性能下降。

（2）有脱碳现象，晶粒长大，残留奥氏体增多。

（3）形成ε相和复合碳化物。

（4）处理后的母材必须进行淬火和回火。

（5）不适用于低熔点的金属材料。