台湾纳米镀膜工艺推荐

真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，***的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是无限T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。

镀膜前的准备工作

①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。

②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。

③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。

以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。

纳米镀膜工艺的原材料，绝大部分属于储量非常小的稀有金属。这些稀有金属随着科技的发展，其需求长期看涨。随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，这些具有优***理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。

拉奇纳米真空汽相沉积设备(CVD),以被多数科研单位、研究所、大专院校所采用并发表多项国际学术文章。

东莞拉奇纳米科技有限公司,是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。