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真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。　　

　真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。

镀膜技术在传感器方面的应用 在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、***格制作、因此采用薄膜的情况很多。

镀膜技术在集成电路制造中的应用 晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的核心技术之一。

玻璃镀膜设备的一个特点是生产的周期性，即“抽真空—真空状态生产—破空—腔室维护—抽真空”，这样周而复始进行。在生产状态下，溅射舱室内挡板及屏蔽板上沉积的溅射物逐渐增厚，会逐渐产生欠层、崩裂、脱落现象，掉落到玻璃上会影响玻璃的镀膜，造成缺陷，为此，就需要在掉落的溅射物造成的玻璃缺陷增多到一定程度时进行腔室维护，在连续的生产状态下，大约20天左右进行一次腔室维护。