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真空镀膜设备背压检漏法背压检漏法是一种充压检漏与真空检漏相结合的方法，真空镀膜设备中多用于封离后的电子器件、半导体器件等密封件的无损检漏技术中。

其检漏过程基本上可分为充压、净化和检漏三个步骤。

(1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间，如被检件有漏孔，示漏气体就可以通过漏孔进入被检件的内部，并且将随浸泡时间的增加和充气压力的，被检件内部示漏气体的分压力也必然会逐渐升高。

(2)净化过程是采用干燥氮气流或干燥空气流在充压容器外部或在其内部喷吹被检件。

如不具备气源时也可使被检件静置，以便去除吸附在被检件外表面上的示漏气体。

在净化过程中，因为有一部分气体必然会从被检件内部经漏孔流失，从而导致被检件内部示漏气体的分压力逐渐下降，而且净化时间越长，示漏气体的分压降就越大。

(3)检漏过程则是将净化后的被检件放入真空室内，将检漏仪与真空室相连接后进行检漏。

抽真空后由于压差作用，示漏气体即可通过漏孔从被检件内部流出，然后再经过真空室进入检漏仪，按检漏仪的输出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。

一.用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制TiCN膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；

东莞拉奇纳米科技有限公司本着“创新”、“研发”、“优化”自我提升开发新一代化学汽相沉积(CVD)设备,可将镀膜过程量化记录分析,并接受客制化需求使得镀膜差异度与精准性成为可控比例。

玻璃镀膜设备是利用真空磁控溅射方式在浮法玻璃表面进行镀膜的***设备，镀膜舱室真空度为1.0E-6mbar的高真空，生产线采用真空磁控溅射方式在玻璃表面进行镀膜，保持高真空环境是玻璃镀膜设备的基本条件。

玻璃镀膜设备由真空腔室、镀膜腔室、狭缝阀、工艺介质平台、狭缝阀、传动系统、液压设备、冷却系统、放气系统、压缩空气系统、冷却水系统等组成，采用电气程序全自动控制。

玻璃基片通过传动辊道实现水平直线传输，依次经过锁室、缓冲室、过渡室进入工艺腔室，镀膜工艺完成后，经过渡室、缓冲室、锁室传出。传动辊道间通过同步齿形皮带联动，传动辊道由减速机通过施密特联轴器、刚性联轴器等与辊道相连。真空系统主要通过各种真空泵来实现，在生产线各个关键位置均安装各级真空规测量真空度。