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真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，***的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是无限T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。

带钢镀膜质量好，能获得均匀、平滑且极薄的镀膜，镀膜纯度高，耐蚀性和附着力好。钢带镀膜前可经电子束预热表面活化，镀膜纯度高，没有中间硬脆的合金层，可以一次冲压成型，甚至可以卷成直经很小的管而不脱落镀层。

工艺灵活，改变品种方便，可以根据产品要求灵活地实现在钢带上镀单面、双面、单层、多层，可以同时镀两种材料达到镀混合膜。镀膜厚度易于控制，而且可以镀制超薄膜。

由于底、面涂层材料的发展，真空镀膜设备的不断完善与连续化、大型化，真空镀进入工业化的生产阶段，同时渗透到各个科学领域，已成为世界上从20世纪80年代起竞相采用的***表面处理技术之一，广泛应用于金属、木材、纸张、塑料等多种基材的镀件上，逐步展示出真空镀在应用中的独特作用。其中涂料的选择与应用是关系装饰性真空镀膜质量的重要因素