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真空镀中对底涂层的要求：

①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，手机纳米镀膜，不起反应，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。

③成膜性能好，纳米镀膜加工报价，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。

真空镀膜技术一般分为两大类，东莞纳米镀膜，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。

带钢真空镀膜总的来说仍处在发展的初级阶段，真空纳米镀膜，在带钢表面处理中所占份额目前还远不能与热浸镀、电镀相比。阻碍带钢真空镀膜发展的主要原因是生产率低，成本较高。有效的解决方法是开发研制高速，稳定的高功率蒸发源。

大功率电子枪的开发和使用是带钢真空镀膜中的关键技术。一般的真空蒸发镀膜可以采用电阻加热和感应加热。它的设备较简单，但加热温度和蒸发速率较低。要满足连续式工业化生产钢带真空镀膜的需要，就必须使用加热速度快，熔化温度高的热源。