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化学气相沉积的特点

化学气相沉积工艺是，手机镀膜设备，将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛（真空度≤1Pa）中，使气体与模具表面发生反应，光学镀膜设备价格，在模具表面上生成一层薄的固相沉积物，如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素：

一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用，也就是说，各种初始气体之间在界面上的反应来产生沉积，或是通过气相的一个组分与基体表面之间的反应来产生沉积。

二是沉积反应必须在一定的能量条件下进行。一般情况下，产生气相沉积的化学反应必须有足够高的温度作为条件，在有些情况下，可以采用等离子体或激光辅助作为条件，降低沉积反应的温度。

PVD是一种出色的真空镀膜工艺，可改善耐磨性和耐腐蚀性。它对于功能性应用非常需要，例如工具，装饰件，光学增强，模具，模具和刀片。这些只是各种各样已经建立好的应用程序的几个例子。

此技术中使用的设备维护成本低，并且对环境无害。PVD涂层的好处很多。如PVD可以提供真正独特的优势，从而增加产品的耐用性和价值。沉积技术在机加工过程中具有重要作用。

机加工工具可能是紧急的应用之一，需要一些特性，例如高温下的硬度，高耐磨性，化学稳定性，韧性和刚度。此外，PVD还能够生产具有优异附着力，均匀层，设计结构，渐变特性，汽车镀膜设备，可控形态，材料和特性的高度多样性的涂层。

射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PCVD）

在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体，镀膜设备，射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构，优点是可容纳较多工件，但这种装置中的分解率远低于1%，即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时，主要为感应线圈，如图5，也叫无极环形放电，射频频率为13.56MHz。