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发布时间:2020-09-02 04:12:06
物***相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,异华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
认识PVD物***相沉积技术
物***相沉积技术工艺过程简单,五金纳米镀膜设备,对环境改善,纳米镀膜设备,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
人们把等离子体、离子束引入到传统的物***相沉积技术的蒸发和溅射中,参与其镀膜过程,同时通入反应气体,橡胶纳米镀膜设备,也可以在固体表面进行化学反应,生成新的合成产物固体相薄膜,称其为反应镀。
在溅射钛(Ti)等离子体中通入反应气体N2后合成TiN就是一例。
这就是说物***相沉积也可以包含有化学反应。又如,在反应室内通入,借助于w靶阴极电弧放电,在Ar,W等离子体作用下使分解,并在固体表面实现碳键重组,生成掺W的类金刚石碳减摩膜,人们习惯上把这种沉积过程仍归入化学气相沉积,但这是在典型的物***相沉积技术——金属阴极电弧离子镀中实现的。
同时,环保纳米镀膜设备,人们把另一类气相沉积,即通过高温加热金属或金属化合物蒸发成气相,或者通过电子、等离子体、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态),在固体表面上沉积成固相膜,其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合),称为物***相沉积PVD)。
随着气相沉积技术的发展和应用,上述两类型气相沉积各自都有新的技术内容,两者相互交叉,你中有我,我中有你,致使难以严格分清是化学的还是物理的。
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