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纳米镀膜设备

以下是制备的必要条件：

① 在沉积温度下，反应物具有足够的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室；

② 反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的；

③ 沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压。

CVD技术是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂·层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域，其工艺成本具体而定。

物***相沉积涂层设备，饰品纳米镀膜设备，该设备包括耐高压真空炉腔、转炉架、真空系统、阴极电弧系统、控制系统、高温轴承等，同时采用开发的***的真空磁控阴极电弧技术，将具有超高硬度、更强结合力、均匀一致的纳微米超硬薄膜运用于刀具、各类模具以及机械零部件表面，寿命提高达到3-10倍以上。

研究制备的各类PVD涂层包括高硅涂层、高铝涂层（氮铝化钛）、Cr-Al涂层（AlCrN）、TiCN（氮碳化钛）涂层、TiN（氮化钛）涂层、类金刚石（DLC）涂层等。涂层具有光滑、致密、硬度高、耐高温、抗磨损、防氧化等特点，能够进行批量和工业化生产应用。

人们把等离子体、离子束引入到传统的物***相沉积技术的蒸发和溅射中，参与其镀膜过程，同时通入反应气体，环保纳米镀膜设备，也可以在固体表面进行化学反应，生成新的合成产物固体相薄膜，五金配件纳米镀膜设备，称其为反应镀。

在溅射钛(Ti)等离子体中通入反应气体N2后合成TiN就是一例。

这就是说物***相沉积也可以包含有化学反应。又如，在反应室内通入，借助于w靶阴极电弧放电，在Ar，W等离子体作用下使分解，并在固体表面实现碳键重组，纳米镀膜设备，生成掺W的类金刚石碳减摩膜，人们习惯上把这种沉积过程仍归入化学气相沉积，但这是在典型的物***相沉积技术——金属阴极电弧离子镀中实现的。