台湾化学气相沉积镀膜推荐

四种常见的真空镀膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化镁MgF2，LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟合金CuInGa，铜铟硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。

带钢真空镀膜总的来说仍处在发展的初级阶段，在带钢表面处理中所占份额目前还远不能与热浸镀、电镀相比。阻碍带钢真空镀膜发展的主要原因是生产率低，成本较高。有效的解决方法是开发研制高速，稳定的高功率蒸发源。

大功率电子枪的开发和使用是带钢真空镀膜中的关键技术。一般的真空蒸发镀膜可以采用电阻加热和感应加热。它的设备较简单，但加热温度和蒸发速率较低。要满足连续式工业化生产钢带真空镀膜的需要，就必须使用加热速度快，熔化温度高的热源。

真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品品质。加工件进入镀膜室前一定要做到认真的镀前清洁处理，表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物，为了避免加工过程中造成的不良，真空镀加工厂家基本上可采用去油或化学清冼方法将其去掉。粉沫热喷涂：其工艺是在浮法玻璃生产线孤玻璃退水室中，将金属化学粉沫***均匀的直接喷在热玻璃上，***过热分解后，在玻璃表面形成一层金属氧化物膜，此膜由于金属物的不同而呈现不同的透射色和反射色。

塑料在真空镀膜前为何要涂层？

大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，主要原因是有以下几点：

一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高镀层的光亮度。

1. 房间隔缺损封堵器：派瑞林作为涂层置于传统的镍钛合金封堵器表面，这种涂层超薄同形性好、耐腐蚀、与******及血液良好相容，它不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，还可有效的防止外界的***、水分和体液的侵蚀，同时增加了封堵器表面的干润性和绝缘性能，并可防止镍离子析出对细胞***的损害。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。

2. 压力传感器——敏感的电子器件如血压传感器，只需沉积少量Parylene就能充分绝缘，而且少量保护涂层不会明显改变这些器件的操作。